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GV10x順流等離子體清洗器

 

    

       隨著納米科學的發(fā)展，電子探針分析變得越來越具有挑戰(zhàn)性：電子束能量降低，反應氣體使用的增加，保持高分辨率越來越依賴于保持低碳污染狀態(tài)和低碳氫化物污染水平。順流等離子工藝可以快速、方便地消除碳氫化合物的污染并進行樣品清洗。與傳統(tǒng)的“等離子清洗器”中的動能清洗不同，順流等離子清洗過程是一個溫和的化學過程（無動力沖擊）。這一過程徹底地改變了清除真空腔中碳和碳氫化物污染的方法。


       該工藝可高效地清潔大容積腔室和嚴重污染的表面。GV10x等離子清洗器只需傳統(tǒng)清理器約1/10的時間即可清潔鏡腔，因為它會使空氣產(chǎn)生更高濃度的氫離子和氧離子，從而達到去污目的，其效果更為溫和。

 

 

       與使用冷凝捕集器、氮氣吹塵和其他等離子清潔器去污染的傳統(tǒng)方法相比，GV10x等離子清洗器清除碳污染的能力得到了重大的改善。GV10x具有更大的功率和壓力范圍（5到100瓦，2到<0.005Torr），代表了SEM和其他分析儀器（包括Mas-Spec、XPS等）中碳和碳氫化合物控制達到了典范式的轉(zhuǎn)變。 
        原子氧和氫將表面碳轉(zhuǎn)化為氣態(tài)分子，不再像傳統(tǒng)的方式那樣只將其固化或吸附，而是將氣態(tài)分子從鏡腔中抽出，從而達到去污效果。聚合沉積物等人工樣品可在>5分鐘的循環(huán)中被掃除掉。由于不頻繁的清洗周期，QWK?的配置結(jié)構(gòu)允許GV10x等離子清洗器可以在多個EM工具中保持較低的HC水平。
       IBSS集團提供了可驅(qū)動和操作GV10x等離子體源的控制器。 實驗室用戶可依需求選擇BT控制器或2U控制器。

                                                      

                                                                  清洗效果對比：

   

  

 

       從Windows軟件或觸摸屏，操作員可以：在運行期間進行設(shè)置和監(jiān)控，可將功率從10瓦更改為99瓦。 從等離子源調(diào)整進氣量可選擇2 Torr <<5 mTorr的壓力范圍。GV10x寬壓力范圍允許在TMP速度下清除碳氫污染，而無需中斷TMP系統(tǒng)的軟件控制。 GV10x寬壓力范圍允許在TMP速度下清除碳氫污染，而無需中斷TMP系統(tǒng)的軟件控制。

 

Key Features

1、 在小于5 mTorr至2 Torr的條件下，無需中斷TMP即可調(diào)節(jié)等離子體壓力

2、 50瓦時可重復去污率為1.5納米/分鐘 

3、等離子清洗周期少于5分鐘

4、低工作壓力產(chǎn)生均勻清洗效果

5、 減少污染的效率比其他等離子清洗器高10倍以上

6、順流等離子體-無加熱和濺射損傷

7、光隔離控制器保護SEM軟件

8、短期內(nèi)即可獲得投資回報

 

離子源的特點

1、 電感耦合等離子體源

2、提供KF40、ConFlat和Qwk-Switch?附件

3、Qwk-Switch?快速接頭– 實現(xiàn)儀器之間的無縫轉(zhuǎn)換

4、控制器的特點

5、通過觸摸屏或Windows系統(tǒng)進行操作

6、明亮靈敏的觸摸屏

7、可調(diào)射頻功率：5-100瓦

8、 可調(diào)清洗時間，配置循環(huán)進度條

9、密碼保護設(shè)置

10、垂直于地面的更小的占地面積（2U控制器）